蒸留、脱着、除去

蒸留、脱着、除去 mersen

液体酸からガスを生成

用途

純HClガスの一般的な用途は、太陽電池や電子機器用の高純度シリコンです。

このHClガスは、有機化学プロセスおよび各種冶金プロセスにも用いられます。

製品情報

  • HClガス生成量 > 除去ユニットにより6 barG
  •  Graphilor®3、タンタルCLクラッド®、またはArmylor®といった耐食性材料を用いて製造されるプロセス機器o Armylor®配管
  • 機器o 技術文書o オプション: スキッドパッケージ
  • 能力範囲: 100% HClベースで1.5~200t/d

お客様が得られるメリット

  • お客様の設備に合わせて設備投資や運営コストを調整するためにカスタマイズされるソリューション
  • 使用実績により証明されているソリューション
  • 経験豊富なパートナー
  • 信頼性のある耐食性ソリューション

 

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