Mersen社は、SiC(炭化ケイ素）で覆われた超高純度グラファイトで作った機器を提案することで、これらの要件を満たします。
これらの専用ソリューションは、材料および精密機械加工に関する当社の専門知識の賜物です。
- ETV-ICPの確認を経た超高純度グラファイトグレード
- SiC(炭化ケイ素）を有する当社のグラファイトグレードの適合性（CTE）は、保護コーティングの長期的完全性を保証します。
- 当社の精密機械加工プロセスでは、三次元検査を実施し、極めて複雑な部品の設計が確実に順守されています。
半導体プロセス機器
半導体、化合物半導体、および太陽光発電産業における高純度グラファイト工具
エピタキシおよびMOCVD：
Mersen社では、エピタキシやMOCVDといった薄膜蒸着相向けに、サブストレートまたは「ウェーハ」を支持するための超高純度グラファイト機器をご提供しています。
プロセスの中心で、本機器、エピタキシサセプタ、またはMOCVD用衛星プラットフォームは最初に蒸着環境へと置かれます。
- 高温
- 高真空
- 侵食性ガス状先駆体の使用、ゼロ汚染、剥離なし
- クリーニング作業中の強酸への耐性
これらのサポートは、理想的な蒸着条件を確保するよう設計されています。