Mersen社は、SiC(炭化ケイ素)で覆われた超高純度グラファイトで作った機器を提案することで、これらの要件を満たします。
これらの専用ソリューションは、材料および精密機械加工に関する当社の専門知識の賜物です。
- ETV-ICPの確認を経た超高純度グラファイトグレード
- SiC(炭化ケイ素)を有する当社のグラファイトグレードの適合性(CTE)は、保護コーティングの長期的完全性を保証します。
- 当社の精密機械加工プロセスでは、三次元検査を実施し、極めて複雑な部品の設計が確実に順守されています。
これらの専用ソリューションは、材料および精密機械加工に関する当社の専門知識の賜物です。
イオン注入技術は、特にホウ素、リン、およびヒ素といったドープ剤を導入する際、基板の構成および物理的特性を部分的に変更するために半導体業界で用いられています。
これらの機械で用いられている電極およびグラファイト保護スクリーンは、イオン衝撃により著しく腐食します。
(TEL) 03-5325-6311
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ETV-ICP OES - detecting limits for high purity carbon and graphite
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ETV-ICP OES - detecting limits for high purity carbon and graphitePurified graphite silicon carbide graphite enhancement
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Purified graphite silicon carbide graphite enhancementETV-ICP OES - detecting limits for high purity carbon and graphite
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